Nanoscale focused electron beam induced etching of nickel using a liquid reactant.

Lami, Sarah K; Kaphle, Amrit P; Briot, Nicolas J; Botman, Aurélien; Todd Hastings, J

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Nanoscale focused electron beam induced etching of nickel using a liquid reactant.

Lami, Sarah K; Kaphle, Amrit P; Briot, Nicolas J; Botman, Aurélien; Todd Hastings, J.

Afiliação

Lami SK; Department of Electrical and Computer Engineering, University of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, United States of America. AL-Furat AL-Awsat Technical University, Najaf 54003, Iraq.

Nanotechnology ; 31(42): 425301, 2020 Jun 24.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-32580183

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Iraque

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