Reaction mechanism of atomic layer deposition of aluminum sulfide using trimethylaluminum and hydrogen sulfide.
Phys Chem Chem Phys
; 23(15): 9594-9603, 2021 Apr 22.
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1
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Idioma:
En
Revista:
Phys Chem Chem Phys
Assunto da revista:
BIOFISICA
/
QUIMICA
Ano de publicação:
2021
Tipo de documento:
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