Stamping-based planarization of flexible substrate for low-pressure UV nanoimprint lithography.

Altun, Ali Ozhan; Jeong, Jun-Ho; Jung, Sung-Un; Kim, Ki-Don; Choi, Dae-Geun; Choi, Jun-Hyuk; Shim, Jong-Youp; Lee, Dong-Il; Lee, Eung-Sug

Altun, Ali Ozhan; Jeong, Jun-Ho; Jung, Sung-Un; Kim, Ki-Don; Choi, Dae-Geun; Choi, Jun-Hyuk; Shim, Jong-Youp; Lee, Dong-Il; Lee, Eung-Sug.

Afiliación

Altun AO; Nano-Mechanical Systems Research Center, Korea Institute of Machinery and Materials, 171 Jang-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305-343, Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 8(11): 5673-7, 2008 Nov.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-19198287

Asunto(s)

Cristalización/métodos; Nanoestructuras/química; Nanoestructuras/ultraestructura; Nanotecnología/métodos; Polímeros/química; Módulo de Elasticidad/efectos de la radiación; Sustancias Macromoleculares/química; Sustancias Macromoleculares/efectos de la radiación; Ensayo de Materiales; Conformación Molecular/efectos de la radiación; Nanoestructuras/efectos de la radiación; Tamaño de la Partícula; Polímeros/efectos de la radiación; Presión; Propiedades de Superficie/efectos de la radiación; Rayos Ultravioleta

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Polímeros / Cristalización / Nanotecnología / Nanoestructuras Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Año: 2008 Tipo del documento: Article Pais de publicación: Estados Unidos

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