Your browser doesn't support javascript.
loading
Tunneling electroresistance effect in ferroelectric tunnel junctions at the nanoscale.
Gruverman, A; Wu, D; Lu, H; Wang, Y; Jang, H W; Folkman, C M; Zhuravlev, M Ye; Felker, D; Rzchowski, M; Eom, C-B; Tsymbal, E Y.
Afiliación
  • Gruverman A; University of Nebraska, Lincoln, Nebraska 68588, USA.
Nano Lett ; 9(10): 3539-43, 2009 Oct.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-19697939

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nano Lett Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nano Lett Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos