Graphoepitaxial assembly of symmetric block copolymers on weakly preferential substrates. | Adv Mater;22(38): 4325-9, 2010 Oct 08. | MEDLINE

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Graphoepitaxial assembly of symmetric block copolymers on weakly preferential substrates.

Han, Eungnak; Kang, Huiman; Liu, Chi-Chun; Nealey, Paul F; Gopalan, Padma.

Afiliación

Han E; Department of Materials Science and Engineering, University of Wisconsin, Madison, Wisconsin 53706, USA.

Adv Mater ; 22(38): 4325-9, 2010 Oct 08.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-20806266

Asunto(s)

Polimetil Metacrilato/química; Poliestirenos/química

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Poliestirenos / Polimetil Metacrilato Idioma: En Revista: Adv Mater Asunto de la revista: BIOFISICA / QUIMICA Año: 2010 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Alemania

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