Enhanced lithographic imaging layer meets semiconductor manufacturing specification a decade early. | Adv Mater;24(19): 2608-13, 2012 May 15. | MEDLINE

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Enhanced lithographic imaging layer meets semiconductor manufacturing specification a decade early.

Tseng, Yu-Chih; Mane, Anil U; Elam, Jeffrey W; Darling, Seth B.

Afiliación

Tseng YC; Argonne National Laboratory, Center for Nanoscale Materials, 9700 S. Cass Ave., Argonne, IL, USA.

Adv Mater ; 24(19): 2608-13, 2012 May 15.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22488639

Asunto(s)

Semiconductores; Óxido de Aluminio/química; Polimetil Metacrilato/química; Dióxido de Silicio/química

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Semiconductores Idioma: En Revista: Adv Mater Asunto de la revista: BIOFISICA / QUIMICA Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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