Sub 50 nm nano-patterns with carbon based spin-on organic hardmask. | J Nanosci Nanotechnol;12(4): 3364-8, 2012 Apr. | MEDLINE

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Sub 50 nm nano-patterns with carbon based spin-on organic hardmask.

Shin, Ju-Hyeon; Yang, Ki-Yeon; Han, Kang-Soo; Kim, Hyeong-Seok; Lee, Heon.

Afiliación

Shin JH; Department of Materials Science and Engineering, Korea University, Anam-Dong 5-Ga, Seongbuk-Gu, Seoul 136-713, Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 12(4): 3364-8, 2012 Apr.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22849125

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Año: 2012 Tipo del documento: Article Pais de publicación: Estados Unidos

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