Direct patterning of coplanar polyethylene glycol alkylsilane monolayers by deep-ultraviolet photolithography as a general method for high fidelity, long-term cell patterning and culture. | J Vac Sci Technol B Nanotechnol Microelectron;29(2): 21020, 2011 Mar. | MEDLINE

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Direct patterning of coplanar polyethylene glycol alkylsilane monolayers by deep-ultraviolet photolithography as a general method for high fidelity, long-term cell patterning and culture.

Wilson, Kerry; Stancescu, Maria; Das, Mainak; Rumsey, John; Hickman, James.

Afiliación

Wilson K; NanoScience Technology Center, University of Central Florida, Orlando, Florida 32826.

J Vac Sci Technol B Nanotechnol Microelectron ; 29(2): 21020, 2011 Mar.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-23028211

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Vac Sci Technol B Nanotechnol Microelectron Año: 2011 Tipo del documento: Article Pais de publicación: Estados Unidos

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