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Suppressing leakage by localized doping in Si nanotransistor channels.
Maassen, Jesse; Guo, Hong.
Afiliación
  • Maassen J; Department of Physics and Centre for the Physics of Materials, McGill University, Montreal, Quebec H3A 2T8, Canada. jmaassen@purdue.edu
Phys Rev Lett ; 109(26): 266803, 2012 Dec 28.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-23368599
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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Rev Lett Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Canadá Pais de publicación: Estados Unidos
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