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Oxygen etching of thick MoS2 films.
Ionescu, Robert; George, Aaron; Ruiz, Isaac; Favors, Zachary; Mutlu, Zafer; Liu, Chueh; Ahmed, Kazi; Wu, Ryan; Jeong, Jong S; Zavala, Lauro; Mkhoyan, K Andre; Ozkan, Mihri; Ozkan, Cengiz S.
Afiliación
  • Ionescu R; Department of Chemistry, University of California, Riverside, CA 92521, USA.
Chem Commun (Camb) ; 50(76): 11226-9, 2014 Oct 04.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-25116379
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Chem Commun (Camb) Asunto de la revista: QUIMICA Año: 2014 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Reino Unido
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