Non-contact XUV metrology of Ru/B4C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis.
Appl Opt
; 57(6): 1315-1320, 2018 Feb 20.
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| ID: mdl-29469828
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Appl Opt
Año:
2018
Tipo del documento:
Article
Pais de publicación:
Estados Unidos