Micro Magnetic Field Sensors Manufactured Using a Standard 0.18-µm CMOS Process. | Micromachines (Basel);9(8)2018 Aug 07. | MEDLINE

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Micro Magnetic Field Sensors Manufactured Using a Standard 0.18-µm CMOS Process.

Lin, Yen-Nan; Dai, Ching-Liang.

Afiliación

Lin YN; Department of Mechanical Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan. g102061073@mail.nchu.edu.tw.
Dai CL; Department of Mechanical Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan. cldai@dragon.nchu.edu.tw.

Micromachines (Basel) ; 9(8)2018 Aug 07.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30424326

Palabras clave

Hall effect; magnetic field; magnetotransistor; micro sensor

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Micromachines (Basel) Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Taiwán Pais de publicación: Suiza

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