Enhanced Ferroelectric Properties and Insulator-Metal Transition-Induced Shift of Polarization-Voltage Hysteresis Loop in VOx-Capped Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films.
ACS Appl Mater Interfaces
; 12(36): 40510-40517, 2020 Sep 09.
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| ID: mdl-32805812
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Asunto de la revista:
BIOTECNOLOGIA
/
ENGENHARIA BIOMEDICA
Año:
2020
Tipo del documento:
Article
País de afiliación:
China