Exposure latitude aware source and mask optimization for extreme ultraviolet lithography.
Appl Opt
; 60(30): 9404-9410, 2021 Oct 20.
Article
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| MEDLINE
| ID: mdl-34807079
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Appl Opt
Año:
2021
Tipo del documento:
Article
Pais de publicación:
Estados Unidos