Deposition Mechanism and Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposited Gallium Nitride Films with Different Substrate Temperatures.
Molecules
; 27(23)2022 Nov 22.
Article
en En
| MEDLINE
| ID: mdl-36500217
Palabras clave
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Asunto principal:
Plasma
/
Semiconductores
Idioma:
En
Revista:
Molecules
Asunto de la revista:
BIOLOGIA
Año:
2022
Tipo del documento:
Article
País de afiliación:
China
Pais de publicación:
Suiza