Complementary Use of Sensitive Nanoscale and Bulk Techniques to Probe Surface and Subsurface Defects in High Volume Manufacturing.

Johnson, Carol A; Subedi, Indra; Exarhos, Stephen; Roth, Joseph; Kautzky, Michael; Terry, Karen

Johnson, Carol A; Subedi, Indra; Exarhos, Stephen; Roth, Joseph; Kautzky, Michael; Terry, Karen.

Afiliación

Johnson CA; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.
Subedi I; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.
Exarhos S; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.
Roth J; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.
Kautzky M; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.
Terry K; Seagate Technology, Bloomington, MNUSA.

Microsc Microanal ; 29(Supplement_1): 758, 2023 Jul 22.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-37613617

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Diagnostic_studies Idioma: En Revista: Microsc Microanal Año: 2023 Tipo del documento: Article Pais de publicación: Reino Unido

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