Stability of Nanometer-Thick Layered Gallium Chalcogenides and Improvements via Hydrogen Passivation.

Gutiérrez, Yael; Dicorato, Stefano; Dilonardo, Elena; Palumbo, Fabio; Giangregorio, Maria M; Losurdo, Maria

Gutiérrez, Yael; Dicorato, Stefano; Dilonardo, Elena; Palumbo, Fabio; Giangregorio, Maria M; Losurdo, Maria.

Afiliación

Gutiérrez Y; Istituto di Chimica della Materia Condensata e delle Tecnologie per l'Energia, ICMATE, CNR, C.so Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy.
Dicorato S; Physics Department, University of Oviedo, 33007 Oviedo, Spain.
Dilonardo E; Institute of Nanotechnology, CNR-NANOTEC, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy.
Palumbo F; Institute of Nanotechnology, CNR-NANOTEC, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy.
Giangregorio MM; Institute of Nanotechnology, CNR-NANOTEC, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy.
Losurdo M; Institute of Nanotechnology, CNR-NANOTEC, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy.

ACS Appl Nano Mater ; 6(21): 20161-20172, 2023 Nov 10.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-37969785

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Nano Mater Año: 2023 Tipo del documento: Article País de afiliación: Italia Pais de publicación: Estados Unidos

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