Erratum: "Understanding chemical and physical mechanisms in atomic layer deposition" [J. Chem. Phys. 152, 040902 (2020)]. | J Chem Phys;160(8)2024 Feb 28. | MEDLINE

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Erratum: "Understanding chemical and physical mechanisms in atomic layer deposition" [J. Chem. Phys. 152, 040902 (2020)].

Richey, Nathaniel E; de Paula, Camila; Bent, Stacey F.

Afiliación

Richey NE; Department of Chemical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA.
de Paula C; Department of Chemical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA.
Bent SF; Department of Chemical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA.

J Chem Phys ; 160(8)2024 Feb 28.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-38407291

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Chem Phys Año: 2024 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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