Your browser doesn't support javascript.
loading
Tunneling electroresistance effect in ferroelectric tunnel junctions at the nanoscale.
Gruverman, A; Wu, D; Lu, H; Wang, Y; Jang, H W; Folkman, C M; Zhuravlev, M Ye; Felker, D; Rzchowski, M; Eom, C-B; Tsymbal, E Y.
Affiliation
  • Gruverman A; University of Nebraska, Lincoln, Nebraska 68588, USA.
Nano Lett ; 9(10): 3539-43, 2009 Oct.
Article de En | MEDLINE | ID: mdl-19697939

Texte intégral: 1 Collection: 01-internacional Base de données: MEDLINE Langue: En Journal: Nano Lett Année: 2009 Type de document: Article Pays d'affiliation: États-Unis d'Amérique

Texte intégral: 1 Collection: 01-internacional Base de données: MEDLINE Langue: En Journal: Nano Lett Année: 2009 Type de document: Article Pays d'affiliation: États-Unis d'Amérique