Effect of using stencil masks made by focused ion beam milling on permalloy (Ni81Fe19) nanostructures.
Nanotechnology
; 24(11): 115301, 2013 Mar 22.
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| ID: mdl-23449320
Texte intégral:
1
Collection:
01-internacional
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MEDLINE
Langue:
En
Journal:
Nanotechnology
Année:
2013
Type de document:
Article
Pays d'affiliation:
Canada