How Colloidal Lithography Limits the Optical Quality of Plasmonic Nanohole Arrays.

Goerlitzer, Eric S A; Zhan, Meichen; Choi, Sukyung; Vogel, Nicolas

Goerlitzer, Eric S A; Zhan, Meichen; Choi, Sukyung; Vogel, Nicolas.

Affiliation

Goerlitzer ESA; Institute of Particle Technology, Friedrich-Alexander University Erlangen-Nürnberg, Cauerstraße 4, D-91058 Erlangen, Germany.
Zhan M; Institute of Particle Technology, Friedrich-Alexander University Erlangen-Nürnberg, Cauerstraße 4, D-91058 Erlangen, Germany.
Choi S; Institute of Particle Technology, Friedrich-Alexander University Erlangen-Nürnberg, Cauerstraße 4, D-91058 Erlangen, Germany.
Vogel N; Institute of Particle Technology, Friedrich-Alexander University Erlangen-Nürnberg, Cauerstraße 4, D-91058 Erlangen, Germany.

Langmuir ; 39(14): 5222-5229, 2023 Apr 11.

Article de En | MEDLINE | ID: mdl-36989478

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Texte intégral: 1 Collection: 01-internacional Base de données: MEDLINE Type d'étude: Prognostic_studies Langue: En Journal: Langmuir Sujet du journal: QUIMICA Année: 2023 Type de document: Article Pays d'affiliation: Allemagne Pays de publication: États-Unis d'Amérique

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