Parallel two-photon lithography achieving uniform sub-200ânm features with thousands of individually controlled foci.

Yang, Shunhua; Su, Chenyi; Gu, Songyun; Sun, Qiuyuan; Sun, Qi; Xu, Liang; Yang, Zhenyao; Jia, Tianhao; Ding, Chenliang; Chen, Shih-Chi; Kuang, Cuifang; Liu, Xu

Contenu principal 1 Recherche 2 Bas de page 3

+A A -A Contraste élevé

Portail Régional BVS

Information et Connaissance en Santé

Recherche avancée EVID@Easy

Parallel two-photon lithography achieving uniform sub-200ânm features with thousands of individually controlled foci.

Yang, Shunhua; Su, Chenyi; Gu, Songyun; Sun, Qiuyuan; Sun, Qi; Xu, Liang; Yang, Zhenyao; Jia, Tianhao; Ding, Chenliang; Chen, Shih-Chi; Kuang, Cuifang; Liu, Xu.

Opt Express ; 31(9): 14174-14184, 2023 Apr 24.

Article de En | MEDLINE | ID: mdl-37157287

Texte intégral

Ajouter à My VHL

Imprimer

XML

PubMed Links

Recherche sur Google

Texte intégral: 1 Collection: 01-internacional Base de données: MEDLINE Langue: En Journal: Opt Express Sujet du journal: OFTALMOLOGIA Année: 2023 Type de document: Article Pays de publication: États-Unis d'Amérique