Full-wafer fabrication by nanostencil lithography of micro/nanomechanical mass sensors monolithically integrated with CMOS. | Nanotechnology;19(30): 305302, 2008 Jul 30. | MEDLINE

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Full-wafer fabrication by nanostencil lithography of micro/nanomechanical mass sensors monolithically integrated with CMOS.

Arcamone, J; van den Boogaart, M A F; Serra-Graells, F; Fraxedas, J; Brugger, J; Pérez-Murano, F.

Afiliação

Arcamone J; CNM-IMB (CSIC), Campus UAB, E-08193 Bellaterra (Barcelona), Spain.

Nanotechnology ; 19(30): 305302, 2008 Jul 30.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21828759

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article País de afiliação: Espanha País de publicação: Reino Unido

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