High performance analysis of layered nanolithography masks by a surface impedance generating operator.
J Opt Soc Am A Opt Image Sci Vis
; 34(4): 464-471, 2017 Apr 01.
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em En
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
J Opt Soc Am A Opt Image Sci Vis
Assunto da revista:
OFTALMOLOGIA
Ano de publicação:
2017
Tipo de documento:
Article
País de publicação:
Estados Unidos