Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS<sub>2</sub>: large area, thickness control and tuneable morphology. | Nanoscale;10(18): 8615-8627, 2018 May 10. | MEDLINE

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Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS₂: large area, thickness control and tuneable morphology.

Sharma, Akhil; Verheijen, Marcel A; Wu, Longfei; Karwal, Saurabh; Vandalon, Vincent; Knoops, Harm C M; Sundaram, Ravi S; Hofmann, Jan P; Kessels, W M M Erwin; Bol, Ageeth A.

Afiliação

Sharma A; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands. a.a.bol@tue.nl.

Nanoscale ; 10(18): 8615-8627, 2018 May 10.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29696289

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Nanoscale Ano de publicação: 2018 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda País de publicação: Reino Unido

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