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Initial stage of atomic layer deposition of 2D-MoS2 on a SiO2 surface: a DFT study.
Shirazi, M; Kessels, W M M; Bol, A A.
Afiliação
  • Shirazi M; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P. O. Box 513, 5600 MB, Eindhoven, The Netherlands. a.a.bol@tue.nl.
Phys Chem Chem Phys ; 20(24): 16861-16875, 2018 Jun 20.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29893398
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Chem Chem Phys Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2018 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda País de publicação: Reino Unido
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