Atomic layer deposition of LiF using LiN(SiMe<sub>3</sub>)<sub>2</sub> and SF<sub>6</sub> plasma. | Phys Chem Chem Phys;23(15): 9304-9314, 2021 Apr 21. | MEDLINE

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Atomic layer deposition of LiF using LiN(SiMe₃)₂ and SF₆ plasma.

Hornsveld, N; Kessels, W M M; Synowicki, R A; Creatore, M.

Afiliação

Hornsveld N; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands. n.hornsveld@tue.nl.

Phys Chem Chem Phys ; 23(15): 9304-9314, 2021 Apr 21.

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Chem Chem Phys Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2021 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda País de publicação: Reino Unido

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