Detalhe da pesquisa
1.
Light-wave dynamic control of magnetism.
Nature
; 571(7764): 240-244, 2019 07.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-31243366
2.
Attosecond Dynamics of sp-Band Photoexcitation.
Phys Rev Lett
; 123(17): 176801, 2019 Oct 25.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-31702261
3.
Low chromatic Fresnel lens for broadband attosecond XUV pulse applications.
Opt Express
; 24(15): 16788-98, 2016 Jul 25.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-27464132
4.
Attosecond photoelectron streaking with enhanced energy resolution for small-bandgap materials.
Opt Lett
; 41(16): 3714-7, 2016 Aug 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-27519070
5.
Generation of circularly polarized high harmonic radiation using a transmission multilayer quarter waveplate.
Opt Express
; 23(26): 33564-78, 2015 Dec 28.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-26832020
6.
Chromium/scandium multilayer mirrors for isolated attosecond pulses at 145 eV.
Opt Lett
; 40(12): 2846-9, 2015 Jun 15.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-26076277
7.
Ion polished Cr/Sc attosecond multilayer mirrors for high water window reflectivity.
Opt Express
; 22(22): 26526-36, 2014 Nov 03.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-25401804
8.
Aperiodic CrSc multilayer mirrors for attosecond water window pulses.
Opt Express
; 21(19): 21728-40, 2013 Sep 23.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-24104067
9.
Attosecond dispersion control by extreme ultraviolet multilayer mirrors.
Opt Express
; 19(3): 1767-76, 2011 Jan 31.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-21368991
10.
Time of flight-photoemission electron microscope for ultrahigh spatiotemporal probing of nanoplasmonic optical fields.
J Phys Condens Matter
; 21(31): 314005, 2009 Aug 05.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-21828566
11.
Three-dimensional characterization of extreme ultraviolet mask blank defects by interference contrast photoemission electron microscopy.
Opt Express
; 16(20): 15343-52, 2008 Sep 29.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-18825170
12.
Monitoring the surface quality of silver plasmon waveguides with nonlinear photoemission electron microscopy and in-situ ion sputtering.
Ultramicroscopy
; 183: 55-60, 2017 12.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-28522242
13.
At-wavelength inspection of sub-40 nm defects in extreme ultraviolet lithography mask blank by photoemission electron microscopy.
Opt Lett
; 32(13): 1875-7, 2007 Jul 01.
Artigo
em Inglês
| MEDLINE | ID: mdl-17603599