[Effect of technological parameters of sputtering on the microstructure of silicon film investigated by Raman analysis].
Guang Pu Xue Yu Guang Pu Fen Xi
; 30(7): 1793-7, 2010 Jul.
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em Zh
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| ID: mdl-20827972
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Idioma:
Zh
Ano de publicação:
2010
Tipo de documento:
Article