Critical issues in the focused ion beam patterning of nanometric hole matrixes on GaAs based semiconducting devices.

Catalano, M; Taurino, A; Lomascolo, M; Schertel, A; Orchowski, A.

Catalano M; Institute for Microelectronics and Microsystems, Italian National Research Council (CNR-IMM)-Lecce Section, via Arnesano, 73100 Lecce, Italy.

Nanotechnology ; 17(6): 1758-62, 2006 Mar 28.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-26558590

Texto completo: 1 Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Año: 2006 Tipo del documento: Article

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