Influence of barrier interlayers on the performance of Mo/Be multilayer mirrors for next-generation EUV lithography. | Opt Express;26(26): 33718-33731, 2018 Dec 24. | MEDLINE

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Influence of barrier interlayers on the performance of Mo/Be multilayer mirrors for next-generation EUV lithography.

Svechnikov, M V; Chkhalo, N I; Gusev, S A; Nechay, A N; Pariev, D E; Pestov, A E; Polkovnikov, V N; Tatarskiy, D A; Salashchenko, N N; Schäfers, F; Sertsu, M G; Sokolov, A; Vainer, Y A; Zorina, M V.

Opt Express ; 26(26): 33718-33731, 2018 Dec 24.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30650805

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