Stamping-based planarization of flexible substrate for low-pressure UV nanoimprint lithography.

Altun, Ali Ozhan; Jeong, Jun-Ho; Jung, Sung-Un; Kim, Ki-Don; Choi, Dae-Geun; Choi, Jun-Hyuk; Shim, Jong-Youp; Lee, Dong-Il; Lee, Eung-Sug

Altun, Ali Ozhan; Jeong, Jun-Ho; Jung, Sung-Un; Kim, Ki-Don; Choi, Dae-Geun; Choi, Jun-Hyuk; Shim, Jong-Youp; Lee, Dong-Il; Lee, Eung-Sug.

Afiliação

Altun AO; Nano-Mechanical Systems Research Center, Korea Institute of Machinery and Materials, 171 Jang-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305-343, Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 8(11): 5673-7, 2008 Nov.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19198287

Assuntos

Cristalização/métodos; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Nanotecnologia/métodos; Polímeros/química; Módulo de Elasticidade/efeitos da radiação; Substâncias Macromoleculares/química; Substâncias Macromoleculares/efeitos da radiação; Teste de Materiais; Conformação Molecular/efeitos da radiação; Nanoestruturas/efeitos da radiação; Tamanho da Partícula; Polímeros/efeitos da radiação; Pressão; Propriedades de Superfície/efeitos da radiação; Raios Ultravioleta

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Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Polímeros / Cristalização / Nanotecnologia / Nanoestruturas Idioma: En Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article

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