Fabrication of surface plasmon-coupled si nanodots in au-embedded silicon oxide nanowires.

Park, Gyeong-Su; Kwon, Hyuksang; Lee, Eun Kyung; Kim, Seong Keun; Lee, Jun Ho; Li, Xiang Shu; Chung, Jae Gwan; Heo, Sung; Song, In Yong; Lee, Jae Hak; Choi, Byoung Lyong; Kim, Jong Min

Park, Gyeong-Su; Kwon, Hyuksang; Lee, Eun Kyung; Kim, Seong Keun; Lee, Jun Ho; Li, Xiang Shu; Chung, Jae Gwan; Heo, Sung; Song, In Yong; Lee, Jae Hak; Choi, Byoung Lyong; Kim, Jong Min.

Afiliação

Park GS; Samsung Advanced Institute of Technology, Suwon, South Korea. gs8144.park@samsung.com <gs8144.park@samsung.com>

Adv Mater ; 22(22): 2421-5, 2010 Jun 11.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20397152

Assuntos

Ouro/química; Nanopartículas Metálicas/química; Nanofios/química; Dióxido de Silício/química; Microscopia Eletrônica de Transmissão e Varredura; Ressonância de Plasmônio de Superfície; Propriedades de Superfície

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Dióxido de Silício / Nanopartículas Metálicas / Nanofios / Ouro Idioma: En Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article

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