Cubic silsesquioxanes as a green, high-performance mold material for nanoimprint lithography.

Ro, Hyun Wook; Popova, Vera; Chen, Lei; Forster, Aaron M; Ding, Yifu; Alvine, Kyle J; Krug, Dave J; Laine, Richard M; Soles, Christopher L

Ro, Hyun Wook; Popova, Vera; Chen, Lei; Forster, Aaron M; Ding, Yifu; Alvine, Kyle J; Krug, Dave J; Laine, Richard M; Soles, Christopher L.

Afiliação

Ro HW; Polymers Division, National Institute of Standards and Technology (NIST), 100 Bureau Dr., Gaithersburg, MD 20899, USA. hyun.ro@nist.gov

Adv Mater ; 23(3): 414-20, 2011 Jan 18.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20715068

Assuntos

Impressão Molecular; Compostos de Organossilício/química; Microscopia de Força Atômica; Nanotecnologia; Polímeros/química; Dióxido de Silício/química; Difração de Raios X

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Compostos de Organossilício / Impressão Molecular Idioma: En Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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