Self-assembly-induced formation of high-density silicon oxide memristor nanostructures on graphene and metal electrodes.

Park, Woon Ik; Yoon, Jong Moon; Park, Moonkyu; Lee, Jinsup; Kim, Sung Kyu; Jeong, Jae Won; Kim, Kyungho; Jeong, Hu Young; Jeon, Seokwoo; No, Kwang Soo; Lee, Jeong Yong; Jung, Yeon Sik

Park, Woon Ik; Yoon, Jong Moon; Park, Moonkyu; Lee, Jinsup; Kim, Sung Kyu; Jeong, Jae Won; Kim, Kyungho; Jeong, Hu Young; Jeon, Seokwoo; No, Kwang Soo; Lee, Jeong Yong; Jung, Yeon Sik.

Afiliação

Park WI; Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-701, Republic of Korea.

Nano Lett ; 12(3): 1235-40, 2012 Mar 14.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22324809

Assuntos

Cristalização/métodos; Eletrônica/instrumentação; Grafite/química; Metais/química; Microeletrodos; Nanoestruturas/química; Dióxido de Silício/química; Impedância Elétrica; Desenho de Equipamento; Análise de Falha de Equipamento; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Conformação Molecular; Nanoestruturas/ultraestrutura; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Dióxido de Silício / Cristalização / Nanoestruturas / Eletrônica / Grafite / Metais / Microeletrodos Idioma: En Ano de publicação: 2012 Tipo de documento: Article

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