Sub-20 nm laser ablation for lithographic dry development.

Sub-20 nm laser ablation for lithographic dry development.

de Oteyza, D G; Perera, P N; Schmidt, M; Falch, M; Dhuey, S D; Harteneck, B D; Schwartzberg, A M; Schuck, P J; Cabrini, S; Olynick, D L.

Afiliação

Nanotechnology ; 23(18): 185301, 2012 May 11.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22498667

Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2012 Tipo de documento: Article

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