Optimization of chemical displacement deposition of copper on porous silicon.

Bandarenka, Hanna; Redko, Sergey; Nenzi, Paolo; Balucani, Marco; Bondarenko, Vitaly

Bandarenka, Hanna; Redko, Sergey; Nenzi, Paolo; Balucani, Marco; Bondarenko, Vitaly.

Afiliação

Bandarenka H; Belarussian State University of Informatics and Radioelectronics, Brovka Street 6, Minsk 220013, Belarus.

J Nanosci Nanotechnol ; 12(11): 8725-31, 2012 Nov.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23421274

Assuntos

Cobre/química; Cristalização/métodos; Modelos Químicos; Modelos Moleculares; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Silício/química; Adsorção; Simulação por Computador; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Conformação Molecular; Tamanho da Partícula; Porosidade; Propriedades de Superfície

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Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Silício / Modelos Moleculares / Cobre / Cristalização / Nanoestruturas / Modelos Químicos Tipo de estudo: Qualitative_research Idioma: En Ano de publicação: 2012 Tipo de documento: Article

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