120 nm resolution and 55 nm structure size in STED-lithography. | Opt Express;21(9): 10831-40, 2013 May 06. | MEDLINE

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120 nm resolution and 55 nm structure size in STED-lithography.

Wollhofen, Richard; Katzmann, Julia; Hrelescu, Calin; Jacak, Jaroslaw; Klar, Thomas A.

Afiliação

Wollhofen R; Institute of Applied Physics, Johannes Kepler University Linz, 4040 Linz, Austria.

Opt Express ; 21(9): 10831-40, 2013 May 06.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23669940

Assuntos

Lasers; Impressão Molecular/métodos; Fotografação/métodos; Refratometria/instrumentação; Desenho de Equipamento; Análise de Falha de Equipamento

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Refratometria / Fotografação / Impressão Molecular / Lasers Idioma: En Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Refratometria / Fotografação / Impressão Molecular / Lasers Idioma: En Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article