Highly Sensitive Formation of Stable Surface Relief Structures in Bisanthracene Films with Spatially Patterned Photopolymerization.
ACS Appl Mater Interfaces
; 8(34): 21974-8, 2016 Aug 31.
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| ID: mdl-27513175
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Tipo de estudo:
Diagnostic_studies
Idioma:
En
Ano de publicação:
2016
Tipo de documento:
Article