High-temperature operation of a silicon qubit.

Ono, Keiji; Mori, Takahiro; Moriyama, Satoshi.

Afiliação

Ono K; Advanced Device Laboratory, RIKEN, 2-1 Hirosawa, Wako, Saitama, 351-0198, Japan. k-ono@riken.jp.
Mori T; Nanoelectronics Research Institute (NeRI), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki, 305-8568, Japan.
Moriyama S; International Center for Materials Nanoarchitectonics (WPI-MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, 305-0044, Japan.

Sci Rep ; 9(1): 469, 2019 Jan 24.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-30679469

Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article

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