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Cyclic Plasma Halogenation of Amorphous Carbon for Defect-Free Area-Selective Atomic Layer Deposition of Titanium Oxide.
Krishtab, Mikhail; Armini, Silvia; Meersschaut, Johan; De Gendt, Stefan; Ameloot, Rob.
Afiliação
  • Krishtab M; cMACS, KU Leuven, Celestijnenlaan 200F, 3001 Leuven, Belgium.
  • Armini S; imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium.
  • Meersschaut J; imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium.
  • De Gendt S; imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium.
  • Ameloot R; imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium.
ACS Appl Mater Interfaces ; 13(27): 32381-32392, 2021 Jul 14.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-34160190
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2021 Tipo de documento: Article
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