Hole-initiated melting process of thin films. | J Chem Phys;158(22)2023 Jun 14. | MEDLINE

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Hole-initiated melting process of thin films.

Jin, Chenyu; Riegler, Hans.

Afiliação

Jin C; Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, Science Park Golm, 14476 Potsdam, Germany.
Riegler H; Physics of Living Matter, Department of Physics and Materials Science, University of Luxembourg, L-1511 Luxembourg City, Grand Duchy of Luxembourg.

J Chem Phys ; 158(22)2023 Jun 14.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-37290088

Assuntos

Dióxido de Silício; Propriedades de Superfície; Molhabilidade; Congelamento

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Dióxido de Silício Idioma: En Ano de publicação: 2023 Tipo de documento: Article

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