Use of the ultraviolet absorption spectrum of CF2 to determine the spatially resolved absolute CF2 density, rotational temperature, and vibrational distribution in a plasma etching reactor. | J Chem Phys;120(20): 9499-508, 2004 May 22. | MEDLINE

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Use of the ultraviolet absorption spectrum of CF2 to determine the spatially resolved absolute CF2 density, rotational temperature, and vibrational distribution in a plasma etching reactor.

Bulcourt, Nicolas; Booth, Jean-Paul; Hudson, Eric A; Luque, Jorge; Mok, Daniel K W; Lee, Edmond P; Chau, Foo-Tim; Dyke, John M.

Afiliação

Bulcourt N; Laboratoire de Physique et Technologie des Plasmas (LPTP), Ecole Polytechnique, Palaiseau, France.

J Chem Phys ; 120(20): 9499-508, 2004 May 22.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-15267961

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2004 Tipo de documento: Article

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