Influence of thermal annealing and ultraviolet light irradiation on LaF3 thin films at 193 nm.

Lee, Cheng-Chung; Liu, Ming-Chung; Kaneko, Masaaki; Nakahira, Kazuhide; Takano, Yuuichi.

Afiliação

Lee CC; Thin Film Technology Center, National Central University, Chung-Li 320, Taiwan. cclee@ios.ncu.edu.tw

Appl Opt ; 44(32): 6921-6, 2005 Nov 10.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-16294967

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2005 Tipo de documento: Article

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