Self-assembly and crystallization behavior of mesoporous, crystalline HfO2 thin films: a model system for the generation of mesostructured transition-metal oxides.

Brezesinski, Torsten; Smarsly, Bernd; Iimura, Ken-ichi; Grosso, David; Boissière, Cédric; Amenitsch, Heinz; Antonietti, Markus; Sanchez, Clément

Brezesinski, Torsten; Smarsly, Bernd; Iimura, Ken-ichi; Grosso, David; Boissière, Cédric; Amenitsch, Heinz; Antonietti, Markus; Sanchez, Clément.

Afiliação

Brezesinski T; Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, Research Campus Golm, Am Mühlenberg 1, 14424 Potsdam-Golm, Germany.

Small ; 1(8-9): 889-98, 2005 Aug.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-17193544

Assuntos

Háfnio/química; Nanopartículas Metálicas/química; Nanotecnologia/métodos; Óxidos/química; Cristalização; Cristalografia por Raios X; Análise de Fourier; Teste de Materiais; Microscopia de Força Atômica; Microscopia Eletrônica de Transmissão; Modelos Químicos; Nitrogênio/química; Polímeros; Espalhamento de Radiação; Temperatura

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Óxidos / Nanotecnologia / Nanopartículas Metálicas / Háfnio Idioma: En Ano de publicação: 2005 Tipo de documento: Article

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