Growth of silicon nanoclusters on different substrates by plasma enhanced chemical vapor deposition.

Monroy, B M; Santana, G; Fandiõ, J; Ortiz, A; Alonso, J C

Monroy, B M; Santana, G; Fandiõ, J; Ortiz, A; Alonso, J C.

Afiliação

Monroy BM; Instituto de Investigaciones en Materiales, Universidad Nacional Autónoma de México, Cd. Universitaria, A.P 70-360, Coyoacán 04510, D.F México.

J Nanosci Nanotechnol ; 6(12): 3752-5, 2006 Dec.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-17256325

Assuntos

Cristalização/métodos; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Nanotecnologia/métodos; Silanos/química; Silício/química; Adsorção; Gases/química; Temperatura Alta; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Membranas Artificiais; Conformação Molecular; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Silanos / Silício / Cristalização / Nanotecnologia / Nanoestruturas Idioma: En Ano de publicação: 2006 Tipo de documento: Article

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