Study of nitrogen diffusion profile of low resistivity diffusion barrier by resputtering technology.

Tsao, Jung-Chih; Liu, Chuan-Pu; Wang, Ying-Lang; Chen, Kei-Wei.

Afiliação

Tsao JC; Department of Materials Science and Engineering and Center for Micro/Nano Science and Technology, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan 701, Republic of China.

J Nanosci Nanotechnol ; 9(2): 759-63, 2009 Feb.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19441387

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article

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