Observation of Si pattern sidewall using inclination atomic force microscope for evaluation of line edge roughness.

Hosaka, Sumio; Koyabu, Hirokazu; Noro, Masamichi; Takizawa, Katsuyuki; Sone, Hayato; Yin, You.

Afiliação

Hosaka S; Graduate School of Engineering, Gunma University, 1-5-1 Tenjin, Kiryu 376-8515, Japan.

J Nanosci Nanotechnol ; 10(7): 4522-7, 2010 Jul.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21128451

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article

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