Focused laser spike (FLaSk) annealing of photoactivated chemically amplified resists for rapid hierarchical patterning. | Nanoscale;3(7): 2730-8, 2011 Jul. | MEDLINE

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Focused laser spike (FLaSk) annealing of photoactivated chemically amplified resists for rapid hierarchical patterning.

Singer, Jonathan P; Kooi, Steven E; Thomas, Edwin L.

Afiliação

Singer JP; Department Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Cambridge, MA 02139, USA. jpsinger@mit.edu

Nanoscale ; 3(7): 2730-8, 2011 Jul.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21503354

Assuntos

Lasers; Nanotecnologia

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Lasers Idioma: En Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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