Fabrication of semiconductor-polymer compound nonlinear photonic crystal slab with highly uniform infiltration based on nano-imprint lithography technique. | Opt Express;20(12): 13091-9, 2012 Jun 04. | MEDLINE

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Fabrication of semiconductor-polymer compound nonlinear photonic crystal slab with highly uniform infiltration based on nano-imprint lithography technique.

Qin, Fei; Meng, Zi-Ming; Zhong, Xiao-Lan; Liu, Ye; Li, Zhi-Yuan.

Afiliação

Qin F; Laboratory of Optical Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 603, Beijing 100190, China.

Opt Express ; 20(12): 13091-9, 2012 Jun 04.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22714336

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2012 Tipo de documento: Article

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